Mapping of properties of thin plasma jet films using imaging spectroscopic reflectometry

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele
Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Středoevropský technologický institut. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

NEČAS David ČUDEK Vladimír VODAK Jiří OHLIDAL Miloslav KLAPETEK Petr BENEDIKT Jan RUGNER Katja ZAJÍČKOVÁ Lenka

Rok publikování 2014
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj MEASUREMENT SCIENCE & TECHNOLOGY
Fakulta / Pracoviště MU

Středoevropský technologický institut

Citace
www http://iopscience.iop.org/0957-0233/25/11/115201/pdf/0957-0233_25_11_115201.pdf
Doi http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/25/11/115201
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova imaging spectrophotometry; micro-plasma jet; non-uniform thin films; optical properties; thickness mapping
Přiložené soubory
Popis The construction of a normal-incidence imaging spectrophotometer for mapping of thin film properties is described. It is based on an on-axis reflective imaging system, utilising a telescope-like arrangement. A charge-coupled device camera is used as the detector, permitting measurements in the spectral range of 275-1100 nm with resolution of 37 mu m. The performance of the instrument is demonstrated by optical characterisation of highly non-uniform thin films deposited from hexamethyldisiloxane on silicon substrates by a single capillary plasma jet at atmospheric pressure. The imaging spectrophotometry is used as a self-sufficient technique for the determination of both the film optical constants and maps of local thickness. The thickness maps are compared with the results of conventional thickness profile characterisation methods, profilometry and atomic force microscopy and the differences and errors are discussed.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.