Nucleation and initial growth of atomic layer deposited titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the effect of pretreatment by surface barrier discharge

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

CAMERON David Campbell KRUMPOLEC Richard IVANOVA Tatiana HOMOLA Tomáš ČERNÁK Mirko

Rok publikování 2015
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Applied Surface Science
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016943321500731X
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2015.03.135
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Atomic layer deposition; Spectroscopic ellipsometry; Quantum confinement effects; Nucleation density
Popis This paper reports on the use of spectroscopic ellipsometry to characterise the initial nucleation stage of the atomic layer deposition of the anatase phase of titanium dioxide on silicon substrates.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.