Plasmachemical Deposition of Thin Films

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	JANČA Jan ZAJÍČKOVÁ Lenka
Rok publikování	2000
Druh	Článek ve sborníku
Konference	4th Czech-Russian Seminar on Electrophysical and Thermophysical Processes in Low-Temperature Plasma
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	plasma chemical deposition; Thin Films. hard films; plasma polymers; diamond-like
Popis	PECVD deposition of thin films in RF and MW plasma. Hard diamond-like carbon thin films. Transparent SiOx thin films. Polycrystalline diamond.
Související projekty:	Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek