The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge

• Autoři: SONNENFELD Axel; TUN T. M.; ZAJÍČKOVÁ Lenka; WAGNER Hans-Erich; BEHNKE J. B.; HIPPLER R.
• Rok publikování: 2001
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Popis: The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge

Související projekty

• Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu