Optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films with the wavelengths related to extrema in spectral reflectances

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	OHLÍDAL Ivan FRANTA Daniel OHLÍDAL Miloslav NAVRÁTIL Karel
Rok publikování	2001
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Applied Optics
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
www	http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/AO40_5711.html
Obor	Optika, masery a lasery
Klíčová slova	REFLECTION; CONSTANTS; THICKNESS; SILICON; SYSTEM
Popis	In this contribution a new efficient modification of a method that enables us to perform the optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films without using the absolute values of the reflectances measured is presented. Namely, this modification is based on determining the values of the wavelengths corresponding to touching the spectral dependences of the reflectances of the studied films measured for several angles of incidence with the envelopes of maxima and minima of these spectral dependences. By means of combining the explicit formulas containing the wavelengths mentioned and the suitable iteration procedure one can evaluate the values of the thicknesses and spectral dependences of the refractive indices of the films analyzed in reliable and precise ways.
Související projekty:	Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod