Characterization of thin oxide films on GaAs substrates by optical methods and atomic force microscopy
| Název česky | Charakterizace tenkých oxidových vrstev na GaAs podložkách pomocí optických metod a mikroskopie atomové síly |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2004 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Surface and Interface Analysis |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/SIA36_1203.html |
| Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Klíčová slova | THERMAL-OXIDATION; ROUGH BOUNDARIES; LAYERS |
| Popis | V tomto článku jsou uvedeny výsledky charakterizace tenkých oxidových vrstev připravených na podložkách z monokrystalu GaAs jejich termickou oxidací při teplotě 500o C ve vzduchu. Charakterizace je realizována pomocí optických metod a mikroskopie atomové síly. Optická charakterizace je provedena využitím vícevzorkové modifikace metody založené na kombinaci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie aplikované při téměř kolmém dopadu světla. Je ukázáno, že vrstvy vykazují drsná spodní rozhraní a profil indexu lomu. Spektrální závislosti indexu lomu a extinkčního koeficientu těchto vrstev jsou presentovány v široké spektrální oblasti, tj. v oblasti 210-900 nm. Hodnoty tlouštěk a parametrů drsnosti charakterizující oxidové vrstvy jsou také uvedeny. |
| Související projekty: |