Comparison of the ionization efficiency of two ionized physical vapour deposition processes: magnetron discharge assisted by microwave plasma or radio-frequency plasma

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Srovnani ionizacni ucinnosti dvou IPVD procesu: magnetronoveho vyboje s dodatecnym mikrovlnnym nebo RF vybojem
Autoři

DE POUSQUES Ludovic IMBERT Jean-Christiphe VAŠINA Petr BOISSE-LAPORTE Caroline TEULE-GAY Lionel TOUZEAU Michel

Rok publikování 2004
Druh Článek ve sborníku
Konference Prosseding of Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova IPVD; microwave; RF; magnetron
Popis Cilem teto prace je srovnat dva IPVD procesu, zejmena ionizacni potencial kazdeho z nich
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.