Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Aktinometrie pro porozumění plazmochemické depozice tenkých vrstev z O2/HMDSO plazmatu
Autoři	ŠMÍD Radek ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma
Rok publikování	2005
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proceedings of the XXVII ICPIG
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
www	http://www.icpig2005.nl/cd/D:/Proceedings_ICPIG_2005.html
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	actinometry; HMDSO; optical emission spectroscopy
Popis	Použili jsme aktinometrii pro odhad disociačního koeficientu kyslíku v kapacitně vázaných výbojích používaných při depozicích z 02/HMDSO. Disociační stupeň v čistém kyslíku rostl s rostoucím výkonem a vykazoval maximum 20% při tlaku 5 Pa. Přesto tento disociační stupeň nebyl dostatečně vysoký, aby bylo možné vytvářet vrstvy podobné SiO2, protože při 5 Pa bylo stále ještě velké množství HMDSO ve směsi. Pokles disociačního stupně na 2-4% při vyšších průtocích kyslíku, tedy i tlacích, měl za následek nedostatečnou oxidaci vrstev rostoucích ze směsi obsahující větší procento 02.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou