Study of thickness reduction of a-C:H thin film under UV light irradiation

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Studium redukce tlouštky amorfní uhlíkové tenké vrstvy vlivem UV záření
Autoři	VALTR Miroslav KLAPETEK Petr OHLÍDAL Ivan DUCHOŇ Václav
Rok publikování	2007
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proceedings of ICPIG XXVIII Conference
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Carbon; Oxidation; Optical Properties
Popis	V příspěvku je prezentováno studium redukce tlouštky amorfní uhlíkové tenké vrstvy vlivem UV záření. Optické parametry vrstvy jsou určovány pomocí spektroskopické elipsometrie a plošného měření reflektance. Byla pozorována lineární závislost v poklesu tlouštky vrstvy. Rychlost je poklesu 10,1 nm/h. Avšak pokud byla tlouštka vrstvy menší než cca 14 nm, rychlost poklesu tlouštky vrstvy se postupně zmenšovala. Měření plošné reflektance, spočívající v naměření odrazivosti v mnoha bodech na povrchu vzorku, se využilo ke stanovení rozložení tlouštky. Tato metoda je velmi citlivá k malým změnám tlouštky.
Související projekty:	Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie