Influence of substrate material on plasma indeposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Vliv vzorku na plazma v depozičním/odprašovacím reaktoru: experiment a počítačová simulace
Autoři

BRZOBOHATÝ Oto BURŠÍKOVÁ Vilma NEČAS David VALTR Miroslav TRUNEC David

Rok publikování 2008
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of Physics D: Applied Physics
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova r.f. plasma; computer simulation; secondary electron emision; plasma deposition; plasma sputtering
Popis Cílem této práce bylo zkoumání vlivu materiálu substrátu na vysokofrekvenční plazma v planparalelním reaktoru určeného pro depozici a odprašovaní tenkých vrstev za nízkých tlaků. Experimentálně bylo pozorováno, že depoziční a odprašovací rychlost je jiná nad substrátem a nad elektrodou. Navíc substrát umístěný nad buzenou elektrodou se zrcadlí v tloušťce deponované popř. odprašované tenké vrstvy přítomné na protější zemněné elektrodě. Proto byl pomocí počítačových modelu, založeného na metodě Particle In Cell/Monte Carlo, studován vliv materiálu substrátu na parametry plazmatu. Ukázali jsme, že toto zrcadlení je způsobeno rozdílem koeficientu sekundární emise substrátu a elektrody. Tento rozdíl totiž ovlivní lokálně hustotu plazmatu, a tedy i depoziční a odprašovací rychlost.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.