Optical characterization of non-stoichiometric silicon nitride films

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Optická charakterizace nestechiometrických vrstev nitridu křemíku
Autoři

NEČAS David PEŘINA Vratislav FRANTA Daniel OHLÍDAL Ivan ZEMEK Josef

Rok publikování 2008
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj physica status solidi (c)
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Optika, masery a lasery
Klíčová slova ellipsometry; spectrophotometry; silicon nitride; stoichiometry; optical constants
Popis Charakterizace nestechiometrických vrstev nitridu křemíku připravených metodou PECVD na křemíkové monokrystalické substráty jsou provedeny pomocí víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie a Rutherfordova zpětného rozptylu (RBS). Optická charakterizace zaměstnává disperzního modelu založeného na parametrizaci hustoty elektronových stavů z valenčního a vodivostního pásu. Tenké overlayery na horní hranici vrstev jsou vzaty v úvahu. Jsou určeny hodnoty rozptylu parametrů filmů SiNx a tloušťky těchto filmů a overlayerů. Poměry Si a N atomových frakcí jednotlivých vrstev jsou hodnoceny pomocí RBS. Výsledky z optické metody a RBS jsou korelovány.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.