Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Morfologie povrchu amorfních uhlíkových vrstev s příměsí vodíku deponované v pulzním radiofrekvenčním výboji
Autoři

VALTR Miroslav KLAPETEK Petr BURŠÍKOVÁ Vilma OHLÍDAL Ivan FRANTA Daniel

Rok publikování 2008
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Chem. listy
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://www.chemicke-listy.cz/docs/full/2008_16_s1529-s1532.pdf
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova plasma enhanced chemical vapor deposition;pulsed discharge;atomic force microscopy
Popis We studied in this work surface morphology of thin amorphous hydrocarbon films by means of atomic force microscope. The AFM data were collected in two regions on the sample. We observed a significant difference in roughness parameters between these regions with increasing total deposition time. RMS values of the heights near the edge of the sample did not exhibit any significant change with the total deposition time and in the mean are equal to approximately 7 nm. However, RMS values of the heights in the center of the sample increased linearly with the total deposition time and reached values up to 125.6 nm. The values of autocorrelation length were independent on total deposition time, but there was a difference in absolute values. The mean value of this parameter near the edge of the sample was 145 nm, while in the center of the sample the respective value was 359 nm. The suggested reason for this surface non-uniformity is the reactor design.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.