Hybrid PVD-PECVD sputtering deposition process - from properties of deposited films to process characteristics

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu
Autoři	ELIÁŠ Marek SOUČEK Pavel VAŠINA Petr
Rok publikování	2009
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	hybrid PVD-PECVD
Popis	Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu, sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev