Precise measurement of thickness distribution of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometry

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Přesné měření rozdělení tloušťěk neuniformních vrstev zobrazovací spektrofotometrií
Autoři

OHLÍDAL Miloslav OHLÍDAL Ivan KLAPETEK Petr NEČAS David

Rok publikování 2009
Druh Článek ve sborníku
Konference Proceedings of IMEKO XIX World Congress
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Optika, masery a lasery
Klíčová slova non-uniform thin films; imaging spectroscopic reflectometry
Popis Je představena nová metoda zobrazovací spektroskopické fotometrie nám umožňuje provést úplnou optickou charakterizaci tenkých vrstev vykazujících plošnou neuniformitu optických parameterů. Tato metoda využívá originální zobrazovací fotometr pracující v režimu odrazivosti při kolmém dopadu světla. Coby detektor slouží CCD kamera. Spektrální závislosti odrazivosti charakterizované vrstvy jsou tak měřeny v malých oblastech povrchu odpovídajících jednotlivým pixelům CCD kamery. Tyto oblasti tvoří mřížku podél velké části povrchu vrstvy. Spektrální závislosti měření v jednotlivých pixelech jsou zpracovány nezávisle pomocí vzorců pro uniformní tenké vrstvy. S použitím těchto vzorců je možno určit honoty lokální tloušťky a optických konstant v každém místě mřížky. Takto lze současně určit rozdělení (mapu) lokální tloušťky a optických konstant neuniformní vrstvy. Popsaná metoda byla použita k charakterizaci vrstev nitridu uhlíku vykazujících neuniformitu pouze v tloušťce. Vrsvty byly připraveny metodou dielektrického bariérového výboje na křemíkové podložky.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.