Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu
Autoři	DVOŘÁK Pavel VAŠINA Petr
Rok publikování	2009
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu - sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev