Optical characterization of HfO2 thin films

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Optická charakterizace tenkých vrstev HfO2
Autoři

FRANTA Daniel OHLÍDAL Ivan NEČAS David VIŽĎA František CAHA Ondřej HASOŇ Martin POKORNÝ Pavel

Rok publikování 2011
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Thin Solid Films
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609011007863
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.03.128
Obor Optika, masery a lasery
Klíčová slova Optical properties; Ellipsometry; Spectrophotometry; Hafnium oxide; Transition-metal oxide; Urbach tail
Popis Hafnia films prepared onto silicon wafers at three substrate temperatures of 40, 160 and 280 degrees C are optically characterized utilizing the multi-sample method. The characterization uses the combination of variable angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry within the spectral region 1.24-6.5 eV (190-1000 nm). The structural model of the HfO(2) films includes boundary nanometric roughness, thickness non-uniformity and refractive index profile. Spectral dependences of the film optical constants are expressed using a recently developed parametrized joint density of states model describing the dielectric response of both interband transitions and excitations of localized states below the band gap. It is shown that the observed weak absorption below the band gap does not correspond to the Urbach tail.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.