PECVD of nanostructured SiO2 in a modulated microwave plasma jet at atmospheric pressure

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

HNILICA Jaroslav SCHÄFER Jan FOEST Rüdiger ZAJÍČKOVÁ Lenka KUDRLE Vít

Rok publikování 2013
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj J. Phys. D: Appl. Phys.
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://iopscience.iop.org/0022-3727/46/33/335202/
Doi http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/46/33/335202
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova PECVD; modulated; microwave; plasma jet; atmospheric pressure
Přiložené soubory
Popis We performed the thin films deposition using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP-PECVD) by means of a microwave plasma jet operating with mixtures of argon and tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS).
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.