Thermal stability of SiOxCyHz films prepared by PECVD

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky termální stabilita SiOxCyHz vrstev připravených metodou PECVD
Autoři

KUČEROVÁ Zuzana BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka FRANCLOVÁ Jana PEŘINA Vratislav

Rok publikování 2005
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Chemické listy
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova thermal stability; TDS; PECVD; FTIR; RBSW; ERDA
Popis Termální stabilta vrstev SiOxCyHz připravovaných metodou PECVD byla studována pomocí TDS, FTIR, RBS, ERDA and spectroskopické elipsometrie.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.