Adhesion of Rhodococcus sp. S3E2 and Rhodococcus sp. S3E3 to plasma prepared Teflon-like and organosilicon surfaces

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k plazmatem připravenému teflonu podobnému povrchu a organosilikonovým povrchům
Autoři

LEHOCKÝ Marian SŤAHEL Pavel KOUTNÝ Marek ČECH Jan INSTITORIS Jakub MRÁČEK Aleš

Rok publikování 2008
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of Materials Processing Technology
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Rhodococcus; Plasma deposition; Cell adhesion; Barrier discharge; Thin films
Popis Studium adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k hydrofobním teflonu podobným vrstvám a organosilikonovým vrstvám deponovaným na papír.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.