Investigation of silicon surface wettability after plasma treatment

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	SKÁCELOVÁ Dana SŤAHEL Pavel HANIČINEC Martin ČERNÁK Mirko
Rok publikování	2010
Druh	Článek ve sborníku
Konference	HAKONE XII Contributed paper
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Diffuse coplanar DBD, silicon, plasma treatment
Popis	In this contribution the influence of the plasma on crystalline Si (100) surface was studied. Dielectric barrier discharge the so called Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) to plasma modification was used. The silicon surface modification after plasma treatment was investigated by AFM and contact angle measurement. Different way to clean the surface is reflected on the surface wettability after plasma treatment and the ageing effect of treated surface was studied too.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku