Investigation of silicon surface wettability after plasma treatment

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

SKÁCELOVÁ Dana SŤAHEL Pavel HANIČINEC Martin ČERNÁK Mirko

Rok publikování 2010
Druh Článek ve sborníku
Konference HAKONE XII Contributed paper
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Diffuse coplanar DBD, silicon, plasma treatment
Popis In this contribution the influence of the plasma on crystalline Si (100) surface was studied. Dielectric barrier discharge the so called Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) to plasma modification was used. The silicon surface modification after plasma treatment was investigated by AFM and contact angle measurement. Different way to clean the surface is reflected on the surface wettability after plasma treatment and the ageing effect of treated surface was studied too.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.