Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering.

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Chování hybridního PVD-PECVD procesu ve srovnání s tradičním reaktivním magnetronovým naprašováním.
Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr
Rok publikování	2010
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. Modelling of hybrid PVD-PECVd process.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace