Magnetron sputtering at CEPLANT project

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

VAŠINA Petr

Rok publikování 2012
Druh Článek ve sborníku
Konference Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Magnetron sputtering
Popis Magnetron sputtering belongs to the most industrially attractive methods for thin film deposition. Magnetron cathodes can be produced several meters long which makes the method very suitable for large area deposition. We presents activity related to magnetron sputtering group performed within the CEPLANT project, research topics, current equipment as well as properties of the sputtering system which is being acquired as one of the core devices of the CEPLANT project.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.