Deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O2 gas mixture
Autoři | |
---|---|
Rok publikování | 1995 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Acta Physica Univesitatis Comenianae |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Související projekty: |