HF plasma pencil- new source for plasma surface processing
Autoři | |
---|---|
Rok publikování | 1999 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Surface and coating technology |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | plasma pencil; atmospheric discharge; diagnostic |
Popis | HF plasma pencil=new source for plasma surface treatment. |
Související projekty: |
|