Deposition of DLC:Si(O) Films in Low Pressure Discharges

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna JANČA Jan

Rok publikování 2001
Druh Článek ve sborníku
Konference Proceedings of 13th Symposium on Application of Plasma Processes
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova DLC; Plasma Enhanced CVD; RF Discharges;
Popis Study of the properties of silicon doped DLC films deposited in rf low pressure discharges. Investigation of the influence of the deposition parameters on the film properties.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.