Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline diamond films prepared in dual frequency discharges

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

KARÁSKOVÁ Monika ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma FRANTA Daniel NEČAS David BLÁHOVÁ Olga ŠPERKA Jiří

Rok publikování 2010
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Surface & coatings technology
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova ultrananocrystalline diamond; bias enhanced nucleation; indentation hardness; ellipsometry; FTIR
Popis Ultrananocrystalline diamond (UNCD) films were deposited directly on polished c-Si substrates in microwave discharge (2.45 GHz) combined with rf capacitive plasma (13.56 MHz) ignited at the substrate electrode. The rf discharge induced a dc self-bias accelerating ions towards the growing film during the whole deposition process. The substrate was either preheated in hydrogen discharge to the deposition temperature of 900 C or the deposition of intermediate layer started at about 200 C and reached 900 C in the 5th minute. The latter procedure resulted in the deposition of coating with the hardness of 70 GPa and very good fracture toughness. The analysis of optical measurement in UV-IR range confirmed the presence of 250 nm thick intermediate layer containing DLC and SiC materials.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.