Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

OHLÍDAL Ivan OHLÍDAL Miloslav NEČAS David FRANTA Daniel BURŠÍKOVÁ Vilma

Rok publikování 2011
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Thin Solid Films
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.069
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.069
Obor Optika, masery a lasery
Klíčová slova Optical characterisation; Non-uniform films; Spectroscopic ellipsometry; Spectroscopic reflectometry; Spectroscopic imaging reflectometry
Popis The combined opticalmethod enabling us to performthe complete optical characterisation of weakly absorbing non-uniform thin films is described. This method is based on the combination of standard variable angle spectroscopic ellipsometry, standard spectroscopic reflectometry at near normal incidence and spectroscopic imaging reflectometry applied at normal incidence. The spectral dependences of the optical constants are determined using the non-imaging methods with using the dispersion model based on parametrisation of density of electronic states. The local thickness distribution is then determined by imaging reflectometry. The method is illustrated by means of the complete optical characterisation of SiOxCyHzthin films.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.