Informace o projektu
Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev

Informace

Projekt nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka projektu je na webu muni.cz.

Kód projektu

ME 301

Období řešení

11/1998 - 11/2002

Investor / Programový rámec / typ projektu

Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR

Program KONTAKT (ME + MEB) (jen po projekty s počátkem řešení v roce 2010)

Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.

Hlavní cíl výzkumu a vývoje, který směřuje k průmyslové výrobě nových supertvrdých vrstev, vyžaduje široce zaměřený výzkum celé řady vědeckých a technických problémů, které nemůže SHM Šumperk (finální výrobce) provést dostatečně rychle sám. Hlavníproblém, kterí musí SHM řešit s ohledem na již existující vrstvy (TiAlSi)N je zlepšení reprodukovatelnosti výrobního procesu pomocí vývoje a zavedení vhodné dignostiky a řízení procesu. Druhý problém zahrnuje zlepšení testování vrstev, což zahrnujeměření jejich tvrdosti, modulu pružnosti a pevnosti jako funkce teploty, jakož i standartní řezné zkoušky. Třetím hlavním problémem bude vývoj nových nanokompozitních systémů s lepšími vlastnostmi než mají vrstvy TiN/a-Si3N4 používané pro strojírenskénástroje pokryté karbidem a vyvinout pokud možno ještě lepší materiály.

Publikace

Počet publikací: 26

2001

Diagnostics and Application of High Frequency Plasma Pencil

JANČA Jan ZAJÍČKOVÁ Lenka KLÍMA Miloš SLAVÍČEK Pavel

Článek v odborném periodiku

Plasma Chemistry and Plasma Processing, rok: 2001, ročník: 21 (2001), vydání: 4
Diagnostics and monitoring of TiN/AlN deposition process

KUDRLE Vít ZAJÍČKOVÁ Lenka BRABLEC Antonín

Prezentace v oblasti VaV (AV tvorba, WEB aplikace apod.)

Rok: 2001, druh: Prezentace v oblasti VaV (AV tvorba, WEB aplikace apod.)
Improvement of the Efficiency of the Silicon P-I-N cells by Silicon Incorporated Diamond-like Carbon Antireflective Coating

SLÁDEK Petr BURŠÍKOVÁ Vilma SŤAHEL Pavel

Článek ve sborníku

19th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors, rok: 2001
Modification of Plasma Deposited DLC Films by Hexamethyldisiloxane Addition

BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka NAVRÁTIL Vladislav PRYČKOVÁ Jana SUBEDI Deepak Prasad JANČA Jan

Článek ve sborníku

Proceedings of 13th Symposium on Application of Plasma Processes, rok: 2001
Optical diagnostics of inductively coupled RF discharge

ELIÁŠ Marek KUDRLE Vít BURŠÍKOVÁ Vilma JANČA Jan

Článek ve sborníku

SAPP 13th Symposium Proceedings, rok: 2001
Optical Properties of Si Incorporated Diamond-like Carbon Films Deposited by RF PECVD

BRZOBOHATÝ Oto ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma

Článek ve sborníku

JUNIORMAT 01, rok: 2001
Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds

ZAJÍČKOVÁ Lenka DVOŘÁK Pavel BURŠÍKOVÁ Vilma PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna NAVRÁTIL Vladislav JANČA Jan

Článek ve sborníku

Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2001
Preparation of enhanced CN-based hard coatings by PECVD

ELIÁŠ Marek ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma KUDRLE Vít KLAPETEK Petr JANČA Jan

Článek ve sborníku

Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2001
XPS and Ellipsometric Study of DLC/Silicon Interface

ZAJÍČKOVÁ Lenka VELTRUSKÁ Kateřina TSUD Nataliya FRANTA Daniel

Článek v odborném periodiku

Vacuum, rok: 2001, ročník: 61, vydání: 2-4

2000

Deposition of nanocomposite CNx/SiO films in inductively coupled r.f. discharge

ELIÁŠ Marek ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma JANČA Jan LORENC Michal

Článek v odborném periodiku

Diamond and Related Materials, rok: 2000, ročník: 9, vydání: 7