Influence of hydrogen on behaviour of reactive magnetron sputtering

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

NEKVAPIL Jakub VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza

Rok publikování 2012
Druh Článek ve sborníku
Konference Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova reactive magnetron sputtering; hydrogen
Popis This work studies reactive magnetron sputtering in mixtures of the gases Ar, O2 and H2. The main part is formed by analyzes the hysteresis of the deposition process for the mixtures Ar+O2, Ar+H2 separately and comparison of the results with behaviour of the system for the Ar+O2+H2 mixture. Behaviour of the system is studied for the case of deposition titanium oxide layer.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.