Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon incorporated diamond-like carbon films

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka DVOŘÁK Pavel SUBEDI Deepak Prasad JANČA Jan
Rok publikování	2000
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Abstracts of Invited Lecturers and Contributed Papers ,XVth Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	PECVD; Diamond-like Carbon; Protective thin films; Silicon doping;
Popis	Deposition of diamond like films with an incorporation of silicon by plasma enhanced CVD technique from mixture of methane, argon and hexamethyldisiloxane (HMDSO). Study of the influence of the percentage of HMDSO in the mixture on film properties.
Související projekty:	Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek