Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon incorporated diamond-like carbon films

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka DVOŘÁK Pavel SUBEDI Deepak Prasad JANČA Jan

Rok publikování 2000
Druh Článek ve sborníku
Konference Abstracts of Invited Lecturers and Contributed Papers ,XVth Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova PECVD; Diamond-like Carbon; Protective thin films; Silicon doping;
Popis Deposition of diamond like films with an incorporation of silicon by plasma enhanced CVD technique from mixture of methane, argon and hexamethyldisiloxane (HMDSO). Study of the influence of the percentage of HMDSO in the mixture on film properties.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.